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真空濺射蒸鍍用品產品及廠家

磁控濺射系統(tǒng)NSC-4000 (M)
nano-master杰出的濺射系統(tǒng)可構建成多腔體和多蒸發(fā)源的配置,在介質上濺射金屬和介質材料,最大可支持200mm的襯底。系統(tǒng)可以配置dc直流、rf射頻和pulse dc脈沖直流等電源來進行序列濺射或共濺射。 系統(tǒng)使用渦輪分子泵組,工藝腔極限真空可達5 x 10-7torr??梢酝ㄟ^調節(jié)靶基距,實現(xiàn)所需要的均勻度和沉積速率的調節(jié)。旋轉樣品臺可提供薄膜最優(yōu)的均勻性。
更新時間:2025-12-17
NTE-3000 熱蒸鍍系統(tǒng)
nte-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述:nano-master nte-3000是一款pc計算機控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng),在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設備的設計經過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點,可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產的應用要求。 nte-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)可以在設定的rms電流下,或者在閉環(huán)的配置下操作,并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調節(jié)rms電流以維持恒定的沉積速度。
更新時間:2025-12-17

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