光學(xué)平臺產(chǎn)品及廠家

CS-200z日本Ulvac返回式真空濺射裝置

返回式真空濺射裝置 cs-200z，高真空交直流濺射設(shè)備.適用于金屬、合金、陶瓷材料的高品質(zhì)濺射成膜.

更新時間:2025-08-22

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Pioneer 180-2-PLD美國Neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)

美國neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)pioneer 180-2-pld,一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法

更新時間:2025-08-22

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Pioneer 180-2-PLD氮化鎵支撐片，晶片，硅片

2英寸氮化鎵自支撐晶片, 10×10.5mm²氮化鎵自支撐晶片, 非性/半性氮化鎵自支撐晶片, 4英寸氮化鎵厚膜晶片, 2英寸氮化鋁厚膜晶片, 2英寸氮化鎵厚膜晶片

更新時間:2025-08-22

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AS-ONE法國Annealsys 高溫退火爐

法國annealsys 高溫退火爐as-one, 多用途快速熱處理設(shè)備，適用于硅，化合物半導(dǎo)體，太陽能電池& mems.

更新時間:2025-08-22

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OCTOPLUS 400德國MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)

日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測試范圍，可測試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準(zhǔn)的顆粒數(shù)據(jù)。octoplus 400 是一款通用型mbe系統(tǒng)，非常適合于iii/v族， ii/vi族，及其他復(fù)合半導(dǎo)體材料應(yīng)用。兼容2-4英寸標(biāo)準(zhǔn)晶片。豎直分割式腔體設(shè)計，可以裝配各種源爐，實現(xiàn)不同材料分子束外延生長。

更新時間:2025-08-22

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RTP-150德國UnitemP真空快速退火爐

德國unitemp真空快速退火爐rtp-150, 單晶圓，150mm，快升溫速率可達(dá)150k/s

更新時間:2025-08-22

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綠光納鉆孔設(shè)備Standard Drilling Machine綠光納鉆孔設(shè)備

玻璃去油墨設(shè)備,采用訂制紫外納激光器對玻璃表面進(jìn)行去油墨以及油墨微加工，將產(chǎn)品損傷降至低。

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OAI 800 MBA美國OAI光刻機

oai 800型光學(xué)正面和背面光刻機系統(tǒng), 是半自動,four-camera、光學(xué)正面和背面光刻機。它提供其精確的(1碌m - 2 m碌)對準(zhǔn)精度,旨在大大超過任何紅外背后對準(zhǔn)器性能的一個非常有競爭力的價格。通用模型800光刻機是理想的用于低產(chǎn)量、研發(fā)實驗室和大學(xué)。

更新時間:2025-08-22

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NanoFrazor 3D瑞士納米結(jié)構(gòu)高速直寫機機

瑞士nanofrazor 3d納米結(jié)構(gòu)高速直寫機，源于發(fā)明stm和afm的ibm蘇黎世研發(fā)中心，是其在納米加工技術(shù)的新研究成果。nanofrazor納米3d結(jié)構(gòu)直寫機第一次將納米尺度下的3d結(jié)構(gòu)直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。

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M160中國nanoArch科研3D打印機

nanoarch科研3d打印機m160 ，本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動化的多材料送料系統(tǒng)，兼顧高精度和多材料打印，可支持同時打印4種樹脂基復(fù)合材料進(jìn)行層間或?qū)觾?nèi)多材料3d打印，適用于基礎(chǔ)理論驗證及原理創(chuàng)新研究，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。其主要應(yīng)用在點陣結(jié)構(gòu)材料、功能梯度材料、超材料、復(fù)合材料、復(fù)雜微流控，多材料4d打印等方面。

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P130/S130中國nanoArch科研3D打印機

nanoarch微納3d打印機 p130/s130 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

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P140/S140中國nanoArch科研3D打印機

nanoarch 3d打印機p140/s140 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

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KZ-30UK理音RION 采樣器統(tǒng)

理音rion kz-30uk采樣器，易于操作的室內(nèi)化學(xué)采樣器，當(dāng)腔體壓力過高的時候，可以排凈空氣，防止發(fā)生故障，設(shè)計簡單的化學(xué)防爆采樣器，kz-30uk的設(shè)計是可以為離線測試的液體粒子計數(shù)器提供加壓。

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NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000美Nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)

美nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)：nte-4000 獨立式電子束蒸鍍，nte-3500 緊湊型獨立式熱蒸鍍，nte-3000 雙蒸源臺式熱蒸鍍系統(tǒng)，nte-1000 簡便型熱蒸鍍。熱蒸鍍系統(tǒng)可以跟nano-master那諾-馬斯特的其它任意真空系統(tǒng)組成雙系統(tǒng)。

更新時間:2025-08-22

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NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000美Nano-master磁控濺射系統(tǒng)

美nano-master磁控濺射系統(tǒng)：nsc-4000獨立式磁控濺射系統(tǒng)，可支持共濺射等能力的擴展nsc-3500緊湊型獨立式熱蒸鍍，可以支持金屬材料的dc濺射，介質(zhì)材料的rf濺射，以及脈沖dc濺射等應(yīng)用。nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射nsc-1000單金靶靶材的臺式濺射系統(tǒng)，不但可用于電鏡制備，也可以用于常規(guī)的金屬濺射

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NPE-4000NANO-MASTER的等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD系統(tǒng)

nano-master的等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)pecvd系統(tǒng)npe-4000,可以制造高質(zhì)量的氧化硅、氮化硅、碳納米管、金剛石和碳化硅等薄膜�；蹇梢匀菁{8英寸晶圓，可通過射頻、脈沖直流或者直流電源提供偏壓，可通過熱電阻或者紅外燈加熱到800°c。ns

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NEE-4000美NANO-MASTER電子束蒸鍍系統(tǒng)

nano-master電子束蒸鍍系統(tǒng) nee-4000，可通過樣片掩膜實現(xiàn)組合蒸鍍，并可通過電腦控制單個電子束蒸鍍的蒸鍍速率。系統(tǒng)可支持共蒸鍍功能。能夠升支持自動上下片，以及手動或自動翻轉(zhuǎn)樣片實現(xiàn)雙面鍍膜。該系列的e-beam電子束蒸鍍系統(tǒng)，也可以跟磁控濺射

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NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美NANO-MASTER IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)

ibm離子銑/ibe離子束刻蝕系統(tǒng)：nie-4000 獨立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nie-3500 緊湊型獨立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nir-4000 獨立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射

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NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美Nano-master等離子清洗/灰化系統(tǒng)

nano-master等離子清洗和灰化系統(tǒng)設(shè)計用于廣泛的需求，從批處理和單晶圓的光刻膠剝離到晶圓表面改性都可以涵蓋。這些系統(tǒng)通過計算機控制，可以配套不同的等離子源，加熱和不加熱的基片夾具，以及獨一無二的從等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式的能力。$r

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NLD-4000,NLD-3500,NLD-3000美Nano-master ALD/PEALD原子層沉積系統(tǒng)

美nano-master ald/peald原子層沉積：nld-4000 獨立式ald系統(tǒng)nld-3500 緊湊型獨立式ald系統(tǒng)nld-3000 臺式ald系統(tǒng)

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NRR-4000, NRE-4000, NRE-3000, NDR-4000美Nano-master RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)

美nano-master rie反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)nrr-4000 獨立式雙rie或icp刻蝕系統(tǒng)nre-4000 獨立式rie或icp系統(tǒng)nre-3000 臺式rie系統(tǒng)ndr-4000 深硅刻蝕系統(tǒng)

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NNDT-4000美Nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng)

美nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng) ndt-4000,是一款器件測試系統(tǒng)，俗稱“熱真空系統(tǒng)”,可以用于真空和可控的均勻加熱以及冷卻循環(huán)條件下的器件或樣片測試。

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KC-22A日本RION粒子計數(shù)器

日本rion粒子計數(shù)器：kc-22a ( 光散射法）,大粒子數(shù)濃度：10000顆/l （誤差值低于5%）,可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。

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KC-22B日本RION粒子計數(shù)器

日本rion粒子計數(shù)器：kc-22b ( 光散射法）,液體粒子計數(shù)器，可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。

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KC-31日本RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器kc-31 ( 光散射法）,測試粒徑（6個通道）,大粒子數(shù)濃度：28000000 顆/l

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KC-32日本RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：kc-32 ( 光散射法）測試粒徑（6個通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm, ≥10μm

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KC-20A日本RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：kc-20a ( 光散射法）,測試粒徑（5個通道）：≥10μm， ≥20μm ， ≥30μm ， ≥50μm， ≥100μm

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KA-05日本RION粒子計數(shù)器

日本rion粒子計數(shù)器：ka-05( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器,測試粒徑（2個通道）：≥0.5μm ， ≥5.0μm

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KE-18FX日本RIO液體粒子計數(shù)器

日本rio液體粒子計數(shù)器ke-18fx ( 光散射法）,測試粒徑（4個通道）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm，

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KS-42D日本RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion液體光學(xué)顆粒度儀 ks-42d ( 光散射法），大粒子數(shù)濃度：10 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（8個通道，出廠默認(rèn)）：≥2μm， ≥3μm ， ≥5μm ， ≥7μm, ≥10μm， ≥25μm ， ≥50μm ， ≥100μm(可選 ≥150μm）

更新時間:2025-08-22

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KL-30AX日本RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion粒子計數(shù)器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個通道，工廠標(biāo)配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm

更新時間:2025-08-22

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KL-30A日本理音RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：kl-30a ( 光散射法）, 測純水，可打印。大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個通道，出廠設(shè)置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm

更新時間:2025-08-22

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KL-30B日本理音RION 氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：kl-30b ( 光散射法）, 測純水，可打印。大粒子數(shù)濃度：200 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（4個通道，出廠設(shè)置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm

更新時間:2025-08-22

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KC-51日本理音RION 手持式粒子計數(shù)器

日本rion 手持式粒子計數(shù)器：kc-51( 光散射方式）,大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/m³ （誤差值低于10%）

更新時間:2025-08-22

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KC-52日本理音RION 手持式粒子計數(shù)器

日本rion 手持式粒子計數(shù)器：kc-52( 光散射方式）,粒徑范圍：5個通道： 0.3μm ， 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/m³ （誤差值低于10%）

更新時間:2025-08-22

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KA-02日本理音RION 氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-02( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（2個通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm，大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）

更新時間:2025-08-22

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KA-03日本理音RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-03( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（5個通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm ，≥1μm ， ≥2μm ，≥5μm ，大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）

更新時間:2025-08-22

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KA-82日本理音RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-82( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（5個通道）：≥0.1μm ， ≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm ，大粒子數(shù)濃度：10 000顆/l （誤差值低于5%）

更新時間:2025-08-22

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NRT-3500, NRT-4000美NANO-MASTER RTP快速退火爐

美nano-master rtp快速退火爐nrt-3500 緊湊型獨立式全自動rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨立式全自動rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨立式大批量rtp系統(tǒng)nir-4000 獨立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射

更新時間:2025-08-22

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SWC-3000，SWC-4000， SWC-5000美NANO-MASTER SWC單晶圓清洗系統(tǒng)

美nano-master swc單晶圓清洗系統(tǒng)swc-3000 臺式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-4000 立柜式單晶圓/掩膜版清洗系統(tǒng)swc-5000 帶25片cassette 機械手自動清洗nrt-4000 獨

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LSC-4000美Nano-master 大基片清洗機

美nano-master 大基片清洗機 large substrate cleaning :lsc-4000 是一款獨立式清洗機，使用計算機控制，大可支持外徑21”的基片。

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HMS-5300LTH韓國Ecopia 全自動變溫霍爾效應(yīng)測試儀

韓國ecopia 全自動變溫霍爾效應(yīng)測試儀 hms-5300lth,溫度范圍：80k-573k,測量材料si, sige, sic, gaas, ingaas, inp, gan, tco(including ito),alzno, fecdte, zno 等所有半導(dǎo)體薄膜(p 型和 n 型)；

更新時間:2025-08-22

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Q150T PLUS英國Quorum鍍金鍍碳一體機

英國quorum q150t plus 鍍金鍍碳一體機，是一款優(yōu)化設(shè)計的帶渦輪分子泵抽真空的鍍膜設(shè)備，真空度可達(dá)5x10-5mbar。可以濺射具有超細(xì)成膜顆粒的易氧化金屬，適用于高分辨率成像。同樣地，低散射可得到均勻而致密的無定形碳膜。

更新時間:2025-08-22

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HBO350W/S，HBO5000W/S,HBO200W/DC,HBO1000W/DSUSS光刻機用曝光燈HBO系列

suss蘇斯/休斯，evg, oai等系列光刻機用曝光燈hbo系列，suss蘇斯，evg, oai公司生產(chǎn)的半導(dǎo)體和太陽能行業(yè)用光刻機，目得到業(yè)界的廣泛認(rèn)同，該系列光刻機曝光系統(tǒng)的曝光燈，主要是由德國歐司朗及日本牛尾公司生產(chǎn)的曝光燈進(jìn)行配套供應(yīng)。歐司朗/牛尾曝光燈系列，具備良好的光通量，穩(wěn)定的光強度以及優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)受到業(yè)界的青睞。

更新時間:2025-08-22

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