等離子清洗器產(chǎn)品及廠家
等離子去膠機(jī)kt-s2dqx能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。本產(chǎn)品配備觸摸屏控制，操作更便捷，更智能。
更新時(shí)間:2025-08-22
旋轉(zhuǎn)式等離子清洗機(jī)kt-g1dqx主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用“達(dá)到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應(yīng)殘余物脫離表面。
更新時(shí)間:2025-08-22
滾筒等離子清洗機(jī)kt-g1dqx主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。此款等離子清洗機(jī)針對粉末或者顆粒的360度表面處理設(shè)備，通過旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)石英攪拌罐使樣品處于懸空位置達(dá)到360度清洗。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子清洗機(jī)刻蝕機(jī)kt-s2dqx利用等離子清洗機(jī)對包裝盒子或玻璃瓶體進(jìn)行預(yù)處理，在包裝或瓶體貼標(biāo)簽過程中，經(jīng)過預(yù)處理后，可采用價(jià)格低廉、無環(huán)境污染的水膠。 kt-s2dqx配備了觸摸屏，產(chǎn)品多功能，智能，簡單。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子清洗機(jī)去膠機(jī)器kt-s2dqx在真空腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面．以達(dá)到清洗目的．
更新時(shí)間:2025-08-22
高效能的37 khz換能器，有效傳導(dǎo)能量并且耐用? weeep專利技術(shù)清洗功能，調(diào)頻優(yōu)化聲場均勻分布? pulse脈沖功能，增加超聲波峰值功率，提升超聲功率20%? 定時(shí)：1~30min或連續(xù)操作模式，控溫：30℃~80℃，以5°c為刻度? 自動(dòng)開啟功能：溫度達(dá)到設(shè)定值，超聲清洗自動(dòng)開始? 帶有溫度閾值報(bào)警功能
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的
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等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、微電子、半導(dǎo)體、新能源、線路板、led、微流控、光電太陽能、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，主要用于材料表面進(jìn)行清洗、改性、刻蝕等目的。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子清洗機(jī)（plasma cleaner）也叫等離子清潔機(jī)、等離子表面處理儀，是一種低能耗、清潔、環(huán)保、處理均勻的的高科技技術(shù)，它利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子清洗能實(shí)現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設(shè)備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價(jià)比高，處理快速高效，特別適合于大學(xué)，科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子清洗機(jī)（plasma cleaning）能實(shí)現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設(shè)備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價(jià)比高，處理快速高效，特別適合于大學(xué)，科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子清洗機(jī)（plasma cleaning）能實(shí)現(xiàn)清洗、涂覆、接枝、刻蝕四大功能，改變材料表面性能！該設(shè)備具有較大的腔體尺寸和有效樣品處理面積，使用成本低,性價(jià)比高，處理快速高效，特別適合于大學(xué)，科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-08-22
專為處理粉體如粉末、顆粒狀材料樣品而設(shè)計(jì)的粉體專用等離子清洗機(jī)，可以高效率地處理微細(xì)的甚至分子級別的超細(xì)粉體材料，改變傳統(tǒng)真空等離子清洗機(jī)無法處理粉體樣品的問題。同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。
更新時(shí)間:2025-08-22
vgb系列手套箱專用等離子清洗設(shè)備，優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)更適合手套箱內(nèi)使用。安裝簡單方便，性能穩(wěn)定，實(shí)用性強(qiáng)，容易維護(hù)。
更新時(shí)間:2025-08-22
cpc系列等離子清洗機(jī)是為中試客戶和工業(yè)級客戶而設(shè)計(jì)的等離子體表面處理設(shè)備。配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場景清洗，活化、刻蝕等應(yīng)用。設(shè)備可在嚴(yán)苛環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行，產(chǎn)品性能穩(wěn)定，樣品處理重復(fù)性、一致性好。
更新時(shí)間:2025-08-22
cif透射電鏡（tem）樣品桿清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程離子清洗源設(shè)計(jì)，清洗快速高效，低轟擊損傷，同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。主要用于tem透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
更新時(shí)間:2025-08-22
tem透射樣品桿長期暴露于大氣中，空氣中水汽及污染物會(huì)附著于樣品桿表面，會(huì)導(dǎo)致電鏡抽真空時(shí)間延長，污染電鏡真空腔室、探測器等，影響電鏡的使用壽命
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子可以應(yīng)用于材料接合或精確改變材料表面屬性。通過這項(xiàng)前瞻性技術(shù)可以改變幾乎所有的材料表面。等離子體技術(shù)可應(yīng)用于不同材料，例如：玻璃、金屬、塑料制品、紡織品和陶瓷制品。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層的功能？梢詰(yīng)用于多種領(lǐng)域。
更新時(shí)間:2025-08-22
tetra 30等離子系統(tǒng)能夠以不同的形式進(jìn)行整合，可以滿足生產(chǎn)企業(yè)需求，也能夠按照客戶要求進(jìn)行定制。
更新時(shí)間:2025-08-22
對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動(dòng)從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-08-22
對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動(dòng)從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：?表面激活及精密清洗 通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實(shí)現(xiàn)?此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走
更新時(shí)間:2025-08-22
cap-auto系列全自動(dòng)在線式大氣等離子清洗機(jī)采用單軸模組配合旋噴等離子組件，噴洗高度可調(diào)，運(yùn)動(dòng)軌跡可根據(jù)要求設(shè)定，上下料方式采用鏈條或皮帶傳動(dòng)連接前后工序，實(shí)現(xiàn)對產(chǎn)線產(chǎn)品的等離子清洗處理。
更新時(shí)間:2025-08-22
cpc-auto在線片式真空等離子清洗機(jī)具有成本較低、容易使用，維護(hù)乃保養(yǎng)費(fèi)用低，環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)。適用于芯片粘結(jié)工藝前、引線鍵合和覆晶封裝工藝前的表面處理，與傳統(tǒng)獨(dú)立式的等離子清洗機(jī)相比，在線片式真空等離子清洗機(jī)具有自動(dòng)化程度高、清洗效率高、設(shè)備潔凈度高、適用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)，適用于大規(guī)模全自動(dòng)化生產(chǎn)。
更新時(shí)間:2025-08-22
等離子去膠機(jī)，采用電感耦合各向同性（各個(gè)方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體去膠。特別適合于大學(xué)，科研院所和微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室，對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、mems制造過程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進(jìn)行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預(yù)處理等。
更新時(shí)間:2025-08-22
德國 pva tepla等離子清洗系統(tǒng)80 plus hs, giga690,10n optimus100,80 plus，有別于傳統(tǒng)的射頻等離子(物理)清洗方式，微波等離子清洗可以清洗到樣品的每一個(gè)部位，實(shí)現(xiàn)清洗過程的自由基不會(huì)被障礙物所阻擋，并且不會(huì)改變表面的粗糙度。
更新時(shí)間:2025-08-22
hty-30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過濾支架配套hty-30a真空泵 jmr-y30a型真空泵是設(shè)計(jì)用于微生物檢測的專用真空泵，它具有外形小巧，操作簡單，易于清潔維護(hù)等特點(diǎn)。它既可與微生物限度過濾支架配套，采用負(fù)壓抽濾方式進(jìn)行微生物限度檢查，也可單作為抽氣設(shè)備使
更新時(shí)間:2025-08-21
quickglow是經(jīng)濟(jì)實(shí)惠、易于使用、放電穩(wěn)定的一款國產(chǎn)輝光放電儀，其常見的應(yīng)用之一是用于tem載網(wǎng)表面的親水化處理
更新時(shí)間:2025-08-21
pe系列優(yōu)勢如下：1. 真空腔室均采用航空特種鋁，研究表明采用這種特級鋁材的腔體材質(zhì)可以微調(diào)每個(gè)等離子體以保證整個(gè)處理過程的最佳均勻性。性能遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)石英，玻璃或不銹鋼腔室2. 腔體一體成型，無焊接縫隙, 具有非常好的耐用性和整體穩(wěn)定性。3. 電容平行板設(shè)計(jì), 最高效最均勻的等離子體產(chǎn)生方式。 腔體與電極之間的間隙可到63mm至140mm，可以輕松將大尺寸不規(guī)則實(shí)驗(yàn)樣品放入腔體內(nèi)處理。4. 操作簡便, 面板的操作部分，非傳統(tǒng)按鈕旋鈕控制的設(shè)計(jì)使得操作控制更加便捷和避免人為誤操作。一般操作人員在極短的時(shí)間內(nèi)就可以熟練操作，只需要幾分鐘就可上手掌握。5. 安全保障：在小型設(shè)備中，唯一引入一鍵急停保護(hù)按鈕，當(dāng)參數(shù)設(shè)置有誤而設(shè)備已經(jīng)啟動(dòng)的時(shí)候，可以快速終止實(shí)驗(yàn)，以最小程度降低因操作失誤而造成對樣品的損害。6. 獨(dú)創(chuàng)的粉體收集裝置，可以處理500~1000ml粉體
更新時(shí)間:2025-08-21
1. 真空腔室均采用航空特種鋁，研究表明采用這種特級鋁材的腔體材質(zhì)可以微調(diào)每個(gè)等離子體以保證整個(gè)處理過程的最佳均勻性。性能遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)石英，玻璃或不銹鋼腔室2. 腔體一體成型，無焊接縫隙, 具有非常好的耐用性和整體穩(wěn)定性。3. 電容平行板設(shè)計(jì), 最高效最均勻的等離子體產(chǎn)生方式。 腔體與電極之間的間隙可到63mm至140mm，可以輕松將大尺寸不規(guī)則實(shí)驗(yàn)樣品放入腔體內(nèi)處理。4. 操作簡便, 面板的操作部分，非傳統(tǒng)按鈕旋鈕控制的設(shè)計(jì)使得操作控制更加便捷和避免人為誤操作。一般操作人員在極短的時(shí)間內(nèi)就可以熟練操作，只需要幾分鐘就可上手掌握。5. 安全保障：在小型設(shè)備中，唯一引入一鍵急停保護(hù)按鈕，當(dāng)參數(shù)設(shè)置有誤而設(shè)備已經(jīng)啟動(dòng)的時(shí)候，可以快速終止實(shí)驗(yàn)，以最小程度降低因操作失誤而造成對樣品的損害。6. 獨(dú)創(chuàng)的粉體收集裝置，可以處理500~1000ml粉體
更新時(shí)間:2025-08-21
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-08-21
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-08-21
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-08-21
npc-3500（m）等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-08-21
npe-4000（a）全自動(dòng)pecvd等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述：nano-master pecvd系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的sio2, si3n4, 或dlc薄膜到最大可達(dá)6” 直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過rf或脈沖dc產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)mfc.帶有獨(dú)一無二氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋最廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。
更新時(shí)間:2025-08-21
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-08-21
npc-4000（m）等離子清洗機(jī)概述：nano-master 等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-08-21
npc-3500（a）全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-08-21
最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
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最新技術(shù)的兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對mems和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了最新的水平，可以幫助用戶獲得最干凈的晶圓片和掩模版。
更新時(shí)間:2025-08-21
npc-4000（a）全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述：nano-master 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用pc控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有獨(dú)一無二的能力:可以從pe等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
更新時(shí)間:2025-08-21
nie-3500 (mc)離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動(dòng)化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為國際知名品牌。
更新時(shí)間:2025-08-21
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