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hpc系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當(dāng)之無愧的領(lǐng)先者，我們專為實驗室研發(fā)提供性價比高的小型等離子清洗設(shè)備，已經(jīng)有30多年的豐富經(jīng)驗。

hpc系列小型等離子清洗系統(tǒng)是臺式等離子處理設(shè)備領(lǐng)域當(dāng)之無愧的領(lǐng)先者，我們專為實驗室研發(fā)提供性價比高的小型等離子清洗設(shè)備，已經(jīng)有30多年的豐富經(jīng)驗。

我們所提供的紫外臭氧清洗系統(tǒng)是一種簡單，經(jīng)濟(jì)，高效的材料表面清洗設(shè)備。只需把樣品放置到托盤上，關(guān)上艙門，設(shè)置時間，按下運行按鈕，就可以在幾分鐘內(nèi)，快速去除大多數(shù)無機(jī)基材上的有機(jī)污染物，為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產(chǎn)生臭氧，將污染物分解成揮發(fā)性化合物。這些揮發(fā)性化合物從表面蒸發(fā)而不留痕跡。這種方法可產(chǎn)生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品。

適用于等離子體清洗，蝕刻，表面處理

等離子清洗機(jī)清除樣品表面的污染物，去除光阻膠：產(chǎn)生表面活性功能組；清洗提高材料表面親水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，pdms；表面活化：渲染表面的親水性或疏水性，鍵合和沉積前的表面預(yù)處理表面聚合：沉積帶官能分子團(tuán)的聚合物，移植聚合物到活化后的材料表面；表面改性：在材料表面產(chǎn)生官能分子團(tuán)，高分子材料表面修飾；去除表面殘留微生物，醫(yī)療器械的消毒和殺菌；

ergeo em型sem及tem樣品/樣品桿清潔專用等離子清潔儀美國pie scientific專注研發(fā)先進(jìn)的實驗室用等離子儀器，用于sem/tem樣品清潔、光刻膠蝕刻、等離子體增強(qiáng)沉積、表面處理與活化。我們的宗旨是：將半導(dǎo)體和核工程研究中開發(fā)的最新等離子技術(shù)集成到經(jīng)濟(jì)實用的實驗室用等離子儀器。專為去除sem & tem樣品的碳?xì)湮廴径O(shè)計。特有的雙清洗模式（immersion和downstream）能夠處理各種不同的樣品，從嚴(yán)重污染的電子光學(xué)孔徑光闌到各種脆弱易損樣品，如石墨烯、碳納米管、類金剛石碳膜以及多孔碳支持膜銅網(wǎng)上的tem樣品。石英樣品托板上的孔洞可以安裝標(biāo)準(zhǔn)sem樣品托。特別設(shè)計的適配器可以清潔不同廠家的tem樣品桿。

美國pie出品的em-kleen型遠(yuǎn)程等離子清潔儀，廣泛用于sem掃描電鏡,fib聚焦離子束雙束電鏡,tem透射電鏡,xps_x射線光電子能譜分析儀,ald原子層沉積系統(tǒng),cd-sem, ebr, ebi, euvl和其它高真空系統(tǒng)，可同時清潔真空腔室和樣品！污染物對電子顯微鏡sem/tem和其它高真空系統(tǒng)產(chǎn)生的影響

psd系列產(chǎn)品是數(shù)字控制的臺式清洗設(shè)備，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。設(shè)備配備一個帶反射罩的高強(qiáng)度uv格柵燈盤, 和可調(diào)節(jié)高度的樣品臺，用于優(yōu)化樣品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系統(tǒng)具有進(jìn)出氣接口。該系統(tǒng)由一個方便的預(yù)設(shè)置控制器控制，非常容易操作。

清洗設(shè)備的核心是低壓石英汞燈，產(chǎn)生254和185nm范圍的紫外線。臭氧和等離子氧氣產(chǎn)生，有機(jī)污染物分子在吸收254nm波長紫外線后被激發(fā)或分解。激發(fā)的有機(jī)污染物可以和等離子氧原子反應(yīng)形成氣體，比如co2,h2o等。整個過程在室溫**發(fā)生，并且只需要1到幾分鐘完成。