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馬弗爐/電阻爐產品及廠家

1700℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1700X-Ⅲ
1700℃三溫區(qū)高溫真空管式爐gsl-1700x-ⅲ采用三個數(shù)字溫度控制器進行獨立控溫,可設置30段升降溫程序,中心加熱區(qū)采用800℃級硅鉬棒加熱,另外兩個溫區(qū)采用硅碳棒進行加熱,調整三個溫區(qū)的溫度,可形成一個溫度梯度,進行功
更新時間:2025-12-17
1700℃真空高溫管式爐GSL-1700X-S60
1700℃真空高溫管式爐gsl-1700x-s60采用18
更新時間:2025-12-17
1700℃真空管式爐GSL-1700X-S
1700℃真空管式爐gsl-1700x-s采用30段程控pid控溫儀,最高溫度可達到1700℃,可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結和退火。
更新時間:2025-12-17
1700℃高溫真空氣氛管式爐GSL-1700X
1700℃高溫真空氣氛管式爐gsl-1700x采用1700℃級硅鉬棒為加熱元件,最高溫度可達到1700℃,可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結和退火??販貎x表操作視頻
更新時間:2025-12-17
1600℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-III
1600℃三溫區(qū)高溫真空管式爐gsl-1600x-iii主要用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗或小批量生產,針對電子陶瓷的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積(cvd)等工藝。
更新時間:2025-12-17
1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X-S
1600℃真空高溫管式爐gsl-1600x-s加熱元件采用1750℃級硅鉬棒,廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下,新材料樣品的燒結或退火。
更新時間:2025-12-17
1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X
1600℃真空高溫管式爐gsl-1600x加熱元件采用1700℃級硅鉬棒,廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下,新材料樣品的燒結或退火??販貎x表操作
更新時間:2025-12-17
1400℃三溫區(qū)真空氣氛管式爐GSL-1400X-Ⅲ
1400℃三溫區(qū)真空氣氛管式爐gsl-1400x-ⅲ以硅碳棒為加熱元件,采用s型單鉑銠熱電偶測溫和708p溫控儀自動控溫。本機設有真空裝置,可在多種氣氛下工作,主要用于電子陶瓷產品的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積(cvd)等工藝,特別適合批量生產使用。gsl系列管式爐操作視頻
更新時間:2025-12-17
1500℃高溫真空管式爐GSL-1500X
1500℃高溫真空管式爐gsl-1500x是小型高溫管式爐,采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件,設有兩個真密封法蘭,控制系統(tǒng)采用高精度可控硅移相觸發(fā)控制,其控溫精度為±1℃,可設置30段升降溫程序,最高溫度可達1500℃。
更新時間:2025-12-17
1500℃單溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X
500℃單溫區(qū)開啟式管式爐otf-1500x最高溫度可達1500℃,可設置30段升降溫程序,并設有過熱和斷偶保護功能,控溫精度高達±1℃,特別適合于在氣氛保護或真空環(huán)境下對樣品進行退火和燒結。
更新時間:2025-12-17
1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X-III
1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐otf-1500x-iii是高溫管式爐,最高溫度可達1500℃,三個溫區(qū)分別用三個獨立的溫控系統(tǒng)控制,每個溫區(qū)都可以設置30段升降溫程序,并設有過熱和斷偶保護功能,控溫精度高達±1℃。本機特別適合于在氣氛保護或真空環(huán)境下對樣品進行退火和
更新時間:2025-12-17
1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐OTF-1200X-II
1200℃開啟式雙溫區(qū)管式爐otf-1200x-ii最高溫度可達到1200℃,并可通過調節(jié)兩個獨立的控溫程序,使爐管內溫度場形成一梯度。本機可用cvd方法來生長納米材料和制作各種薄膜。
更新時間:2025-12-17
1200℃開啟式管式爐OTF-1200X-5L
1200℃開啟式管式爐otf-1200x-5l是一款單溫區(qū)管式爐,爐管直徑φ 5″,長1400mm ,最高溫度可達到1200℃。本機可在各種氣氛保護下對樣品進行熱處理、沉積、燒結,是一款極佳的實驗設備。
更新時間:2025-12-17
1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐OTF-1200X
1200℃單溫區(qū)開啟式真空管式爐otf-1200x是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè),在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下,對金屬、非金屬及其它化合物進行燒結、熔化、分析而研制的專用設備。
更新時間:2025-12-17
1100℃ 16通道管式爐(高通量退火&淬火)
式爐共有16個通道,其爐管尺寸25 od x 20 id x 200 l mm 每個加熱模塊都有獨立的溫控系統(tǒng)控制,最高溫度可加熱到1100℃kf25的快接法蘭安裝在每根石英管上,可使樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熱處理加熱模塊有兩種工作位置,
更新時間:2025-12-17
8.5″帶滑動法蘭真空管式爐GSL-1100X-8.5-SR
品簡介:8.5″帶滑動法蘭真空管式爐gsl-1100x-8.5-sr是三溫區(qū)滑軌真空管式爐,可通入混合氣體進行低壓力化學氣相沉積處理。本機可在不同氣氛下,在≤6″的基片上生長多種薄膜??販貎x表操作視頻
更新時間:2025-12-17
1100℃三溫區(qū)帶滑軌8.5″管式爐
產品簡介:1100℃三溫區(qū)帶滑軌8.5″管式爐gsl-1100x-8.5-sr-iii是三溫區(qū)滑軌真空管式爐,可通入混合氣體進行低壓力化學氣相沉積處理。本機可在不同氣氛下,在≤6″的基片上生長多種薄膜。
更新時間:2025-12-17
1100℃三溫區(qū)11″管式爐GSL-1100X-11-III
產品簡介:1100℃三溫區(qū)11″管式爐gsl-1100x-11-iii是三溫區(qū)大尺寸系列管式爐,爐管直徑達到11″。本機廣泛用于真空或氣氛保護環(huán)境下對材料進行燒結
更新時間:2025-12-17
大口徑管式真空氣氛爐GSL-1100X
產品簡介:大口徑管式真空氣氛爐gsl-1100x采用高純石英管,外徑規(guī)格有6″、8″、8.5″、11″可選,并配有不銹鋼法蘭,可進行抽真空或通入其他氣氛氣體操作,主要用于大尺寸樣品燒結的需求。
更新時間:2025-12-17
1200℃微型開啟式管式爐OTF-1200X-S
產品簡介:1200℃微型開啟式管式爐otf-1200x-s是小型管式爐,工作溫度為≤1200℃,功率為≤1200w,可配置直徑為1"或2"的高純石英爐管。爐管兩端配置一對不銹鋼法蘭,設有機械壓力表、不銹鋼截止閥和寶塔嘴接頭,允許樣品在真空和氣體保護下進行燒
更新時間:2025-12-17
1200℃立式真空小管式爐
產品簡介:1200℃立式真空小管式爐otf-1200x-s-vt是一款小型開啟式立式管式爐,適合于對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下吊燒和淬火。采用pid控制器進行溫度調節(jié),可設置30段升降溫程序,控溫精度為± 1℃。
更新時間:2025-12-17

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