1冷縮技術(shù) 全套產(chǎn)品采取最先進的全冷縮技術(shù),無需動火及特殊工具,安裝時,只需將線芯抽出,彈性體便迅速收縮并緊貼所需安裝部位。
2、絕緣可靠 所有硅橡膠都為進口,硅橡膠具有優(yōu)良的絕緣性的高彈性,安裝后始終保持對電纜本體合適的徑向壓力,使內(nèi)界面結(jié)合緊密,不會因電纜運行時的呼吸作用而產(chǎn)生電擊穿。應力控制部分與主絕緣復合為一體,有效地解決了電纜外屏蔽面處的電應力集中問題,確保絕緣可靠,運行安全。
3、安裝簡便 所有產(chǎn)品都已在工廠內(nèi)制造成形。無須特別培訓,安裝操作簡單,且不用火,省時省力,全冷縮自動復位技術(shù),安裝輕松不流汗,大大減少了由于操作不當造成的質(zhì)量事故,而且解決了預制電纜附件收縮不緊或安不進去的現(xiàn)象。
4、運用廣泛 抗污穢、耐老化、憎水性好,具有優(yōu)越的耐寒熱性能,特別適用于高海拔地區(qū)、寒冷地區(qū)、潮濕地區(qū)、鹽霧地區(qū)及重污染地區(qū)。且安裝時不用明火,特別適用于石油、化工、礦山、隧道等易燃易爆場所。
5、設備先進 采用進口設備,自動化程度高,性能可靠。
6、外觀漂亮 冷縮管加長且無合縫線,外表光滑美觀。聯(lián)系人:王成心手機:13373858161
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原子層沉積 ALD 是基于順序使用氣相化學過程的重要技術(shù)之一, 它可以被視為一種特殊類型的化學氣相沉積 CVD . 多數(shù) ALD反應使用兩種或更多種化學物質(zhì)(稱為驅(qū)物, 也稱為“反應物”). 這些驅(qū)物以一種連續(xù)的且自我限制的方式, 一次與一種材料的表面反應. 通過多個 ALD 循環(huán), 緩慢地沉積薄膜.熱沉積式的 ALD 需要較高的制程溫度 (傳統(tǒng)為 150-350°C). 上海伯東代理原子層沉積設備可以精準的控制 ALD 的制程, 薄膜的厚度和均勻度皆小于 +/- 1%, 廣泛應用于 OLED 和硅太陽能電池的鈍化層, 微機電系統(tǒng), 納米電子學, 納米孔結(jié)構(gòu)薄膜, 光學薄膜, 薄膜封裝技術(shù)等域.上海伯東原子層沉積設備配置和優(yōu)點ALD 具有許多優(yōu)點, 例如出色的均勻性, 在復雜形狀的基板表面上沉積的具有相同膜厚的膜保形性, 低溫處理. 因此, ALD 被廣泛應用于微電子, 納米技術(shù)和生物技術(shù)域中.客制化的基板尺寸, 大直徑可達 300mm 晶圓優(yōu)異的薄膜均勻度小于 ±1%較高的深寬比和復雜結(jié)構(gòu)具有相同特性之薄膜沉積薄膜具有高致密性驅(qū)物材料可多達 6種并可分別加熱到 200°C快速脈沖的氣體輸送閥, 反應時間為 10毫通過穩(wěn)定的溫度控制, 將基板載臺加熱到 400°C材料: Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, Ta2O5, ZnO, AZO, HfO2, SiO2, TiO2, GaO2, AlN, SiN, Pt … 等等原子層沉積設備腔體和選件原子層沉積設備腔體為鋁腔或者不銹鋼腔體, 其占地面積小, 可縮短制程時間, 通過使用水冷系統(tǒng), 加熱器或加熱包來控制腔體溫度.設備可以與傳送腔, 機械手臂和手套箱整合在一起, 搭配使用橢圓偏振光譜儀和高真空傳送系統(tǒng).若您需要進一步的了解上海伯東原子層沉積設備, 請參考以下聯(lián)絡方式上海伯東: 葉小姐 臺灣伯東: 王小姐T: +86-21--3511 ext 109 T: +886-3--9508 ext 161F: +86-21-- F: +886-3--0049M: +86 -883- ( 微信同號 ) M: +886---958qq: 2821409400 現(xiàn)部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯(lián)絡上海伯東 葉小姐 -883-上海伯東版權(quán)所有, 翻拷必究
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產(chǎn)品說明:
NTS感應器,NTS傳感器,NTS荷重元 應用范圍:拉壓力試驗機專用。 | ||
規(guī)格容量 | 1kg、2kg、5kg、10kg、50kg、100kg、200kg、500kg、1000kg、2000kg、5000kg等 | |
規(guī)格輸出電壓 | 0.05mV/V | |
零點偏移 | 0.03%R.O. | |
重復性 | 0.02%R.O. | |
材質(zhì) | 不銹鋼或鋁 | |
電纜線 | 6、4 芯隔離線、長2m | |
產(chǎn)地 | 日本 | |
廠牌 | NTS (LRM / LRK系列) |
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