光學平臺產(chǎn)品及廠家

Sigma SEM德Zeiss 電子束直寫儀

德zeiss sigma sem 電子束直寫儀,利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫各種圖形，圖形結(jié)構(gòu)（小線寬為10mm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應用于納米器件，光子晶體，低維半導體等沿域。

更新時間:2025-07-06

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

CL7000俄羅斯 Optosystem 準分子激光器

俄羅斯 optosystem 準分子激光器：cl7000, 準分子激光器是傳統(tǒng)的氣體激光器，由于波長短（紫外），短脈沖寬度，高脈沖能量，是激光器家族不可替代的品種！應用上，準分子激光器在脈沖沉積鍍膜（pld），光纖光柵刻寫，lasik，光刻，微納加工等方面占主導的地位。

更新時間:2025-07-06

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DENTON磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺英國 DENTON 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺

denton 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺,提供了薄膜工業(yè)中廣泛的配置和沉積模式:電子束蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。

更新時間:2025-07-06

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DV-502B英國 Denton 熱蒸發(fā)濺射儀

denton 熱蒸發(fā)濺射儀dv-502b，在大氣和高真空之間快速循環(huán)。

更新時間:2025-07-06

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MEB550SL3法Plassys超高真空多腔體電子束鍍膜機

法plassys超高真空多腔體電子束鍍膜機meb550sl3，可以用于沉積ti, ni, au, cr, al, al2o3等金屬及氧化物薄膜，目全球主要超導量子實驗室均使用該設備制備超導al結(jié)（量子比特和約瑟夫森結(jié)）和量子器件，可以制備大面積、高度穩(wěn)定性和可重復性超導結(jié)。

更新時間:2025-07-06

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美Arradiance 臺式三維原子沉積系統(tǒng)ALD臺式三維原子沉積系統(tǒng)ALD

美arradiance 臺式三維原子沉積系統(tǒng)ald，在小巧的機身（78 x56 x28 cm）中集成了原子層沉積所需的所有功能，可最多容納9片8英寸基片同時沉積。gemstar xt全系配備熱壁，結(jié)合前驅(qū)體瓶加熱，管路加熱，橫向噴頭等設計，使溫度均勻性高達99.9%，氣流對溫度影響減少到0.03%以下。

更新時間:2025-07-06

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PE-ALD德國 Sentech 等離子體增強--原子層沉積系統(tǒng)

德國 sentech pe-ald 等離子體增強--原子層沉積系統(tǒng)，是在3d結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過在工藝循環(huán)過程中在真空腔室分步加入置物實現(xiàn)。等離子增強原子層沉積（peald）是用等離子化的氣態(tài)原子替代水作為氧化物來增強ald性能的先進方法。

更新時間:2025-07-06

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SI 500 D德國 Sentech 等離子沉積機

德國 sentech si 500 d 等離子沉積機，具有特殊的等離子體特性，如高密度、低離子能量和介質(zhì)膜的低壓沉積。

更新時間:2025-07-06

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SI 500 PPD德國 Sentech 等離子沉積機

德國sentech pecvd si 500 ppd等離子沉積機,。它是基于平面電容耦合等離子體源，真空加載鎖定，控溫基片電，可選配低頻混頻，全控無油真空系統(tǒng)采用先進的森泰克控制軟件，采用遠程現(xiàn)場總線技術，具有非常友好的通用用戶界面用于操作si 500 ppd的用戶界面。

更新時間:2025-07-06

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Depolab 200德國 Sentech 等離子沉積機

pecvd depolab 200 等離子體沉積機,將平行板等離子體源設計與直接負載相結(jié)合,可以升為更大的抽油機、低頻電源和額外的燃氣管道。

更新時間:2025-07-06

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Etchlab200德國 Sentech 等離子刻蝕機

sentech etchlab200 經(jīng)濟型反應離子刻蝕機(可升級)，包括抽速更大的真空單元、預真空室及附加氣路等。

更新時間:2025-07-06

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Etchlab 200 RIE德國 Sentech 等離子刻蝕機

etchlab 200 rie等離子體蝕刻機是一種將rie平行板電設計的優(yōu)點與直接負載的低成本設計相結(jié)合的直接負載等離子體蝕刻機系列。etchlab 200具有簡單快速的樣品加載功能，從零件到200a€‰mm或300a€‰mm直徑的晶圓片直接加載到電或載體上。

更新時間:2025-07-06

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RIE SI591德國 Sentech 反應離子刻蝕機

entech rie si591 平板電容式反應離子刻蝕機，兼容多種氯基或氟基刻蝕工藝；小型化和高度模塊化；sentech控制軟件

更新時間:2025-07-06

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ICP-RIE SI 500德國 Sentech 等離子刻蝕機

德國sentech icp-rie si 500 等離子刻蝕機，代表了電感耦合等離子體(icp)加工在研究和生產(chǎn)上的先優(yōu)勢。它以ptsa等離子體源、動態(tài)控溫基片電、全控真空系統(tǒng)、先進的sentech 控制軟件為基礎，采用遠程現(xiàn)場總線技術，為操作si 500提供了非常人性化的通用用戶界面。靈活性和模塊化是si 500的設計特點。

更新時間:2025-07-06

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SI 500德國 Sentech 等離子體 ICP 干法刻蝕機

sentech si 500 電感耦合等離子體icp干法刻蝕系統(tǒng)，感應耦合等離子刻蝕機臺，低損傷納米結(jié)構(gòu)刻蝕，高速率刻蝕，內(nèi)置icp等離子源，動態(tài)溫控。

更新時間:2025-07-06

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JSM-7900F日本JEOL熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡

日本jeol熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩(wěn)定性、多種功能等的同時，操作性能大簡單化。該設備不依賴操作者的技能，始終能夠發(fā)揮其佳性能。

更新時間:2025-07-05

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Serial Block-face SEM 3View日本JEOL發(fā)射掃描電子顯微鏡

更新時間:2025-07-05

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JED-2300/2300F日本JEOL能譜儀

日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統(tǒng)。通過與sem的馬達驅(qū)動樣品臺聯(lián)動使用，可以進行大范圍的觀察和分析。 eds通過檢測被電子束激發(fā)出的樣品特征x射線，確定樣品含有的元素及成分比，可以進行微區(qū)的點分析、線分析及面分析。

更新時間:2025-07-05

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JSM-IT500日本JEOL掃描電子顯微鏡

日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500，是jeol intouchscope系列的新機型。從設定視野到生成報告，用于分析的軟件整合于一體，加快了作業(yè)速度！是一款無縫操作，使用更加方便的掃描電子顯微鏡。

更新時間:2025-07-05

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JSM-7200F日本JEOL 熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡

日本jeol 熱場發(fā)射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f，jsm-7200f的電子光學系統(tǒng)應用了日本電子旗艦機-jsm-7800f prime采用的浸沒式肖特基電子槍技術，標配了ttls系統(tǒng)（through-the-lens system），因此無論是在高/低加速電壓下，空間分辨率都比傳統(tǒng)機型有了很大的提升。

更新時間:2025-07-05

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P21百及納米PancanNano電子束光刻機

新一代超高精度電子束光刻機 p21，樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓，超高寫場拼接精度，電子束閉環(huán)控制系統(tǒng)，束流的時間及空間穩(wěn)定性高，高性能 30 kv 電子束光刻機。

更新時間:2025-07-05

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THz-NeaSNOMOptiCool超精準全開放強磁場低溫光學研究平臺

opticool超精準全開放強磁場低溫光學研究平臺，系統(tǒng)擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體，可在超大空間為您提供高達±7t的磁場。多達7個側(cè)面窗口、1個頂部超大窗口方便光線由各個方向引入樣品腔，高度集成式的設計讓您的樣品在擁有低溫磁場的同時擺脫大型低溫系統(tǒng)的各種束縛。

更新時間:2025-07-05

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attoAFM/attoMFM/attoSHPM低溫強磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡

attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡，采用模塊化的設計。利用標配的控制器和樣品掃描臺，用戶僅需要更換掃描頭和對應的光學部件即可實現(xiàn)不同功能之間的切換。

更新時間:2025-07-05

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MDPmap德國Sentech光伏測量儀

德國sentech光伏測量儀mdpmap，靈活的自動掃描系統(tǒng)，是專為半導體晶片或部分工藝過的晶片的多功能、非接觸和少子壽命測量而設計的。mdpmap能夠連續(xù)地改變激發(fā)脈沖寬度，從非常短的脈沖(100ns)到穩(wěn)態(tài)測量(幾ms)，研究不同深度的缺陷動力學和少子壽命特性。直觀的繪圖軟件適用于有效的常規(guī)測量以及復雜的研發(fā)應用。

更新時間:2025-07-05

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PlasmaPro 80 RIE牛津等離子體刻蝕機

plasmapro 80 rie 牛津等離子體刻蝕機,是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸，是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高質(zhì)量的工藝。

更新時間:2025-07-05

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Plasma Stripper (Asher)等離子去膠機(灰化)

更新時間:2025-07-05

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PlasmaPro 80 ICPCVD牛津ICP等離子沉積機

plasmapro 80 icpcvd 牛津icp等離子沉積機，是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設計可實現(xiàn)快速晶圓裝卸，是科學研究、原型設計和小批量生產(chǎn)的理想選擇。它通過優(yōu)化的電冷卻和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高性能工藝。

更新時間:2025-07-05

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System 100牛津Oxford等離子刻蝕與沉積設備

牛津oxford system 100 等離子刻蝕與沉積設備,該設備是一個靈活和功能強大的等離子體刻蝕和淀積工藝設備,具有工藝靈活性，適用于化合物半導體，光電子學，光子學，微機電系統(tǒng)和微流體技術.

更新時間:2025-07-05

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PlasmaPro 80 ICP英國牛津OXFORD 等離子體刻蝕機

plasmapro 80 icp 英國牛津oxford 等離子體刻蝕機,是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質(zhì)量。直開式設計允許快速的進行晶圓裝卸，是科學研究、原型設計和少量生產(chǎn)的理想選擇。該設備通過優(yōu)化了的電冷卻技術和出色的襯底溫度控制來實現(xiàn)高度穩(wěn)定的工藝結(jié)果。

更新時間:2025-07-05

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OpAL牛津開放式樣品載入ALD設備

牛津opal開放式樣品載入ald設備，緊湊型開放式樣品載入原子層沉積（ald）系統(tǒng)，opal提供了業(yè)的熱ald設備，可以簡單明了的升使用等離子體，使得在同一緊湊設備中集成了等離子體和熱ald。

更新時間:2025-07-05

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Ionfab 300 IBE牛津離子束刻蝕機

已獲得利的高速襯底架（高達1000rpm）設計，并配備了白光光學監(jiān)視器（wlom）——更為準確的實時光學薄膜控制

更新時間:2025-07-05

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PlasmaPro 100 Estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng)

plasmapro 100 estrelas牛津深硅刻蝕系統(tǒng)，旨在提供深硅蝕刻（dsie）域的全方位的靈活性以滿足微電子機械系統(tǒng)（mems）、先進封裝以及納米技術市場的各種工藝要求。考慮到研究和生產(chǎn)的市場發(fā)展，plasmapro 100 estrelas 提供了更加出色的工藝靈活性。

更新時間:2025-07-05

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PlasmaPro 100 ALE牛津原子層刻蝕機

plasmapro 100 ale 牛津原子層刻蝕機，市場應用廣，包括但不限于： mems和傳感器、光電子、分立元器件和納米技術。它具有足夠的靈活性，可用于研究和開發(fā)，通過打造質(zhì)量滿足生產(chǎn)需求。

更新時間:2025-07-05

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Auto500 GB英國HHV 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)

英國hhv auto500 gb 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)，是門設計用于手套箱集成使用的鍍膜設備，滿足氧氣或水汽敏感的材料鍍膜的應用要求。該系統(tǒng)配了一個特殊結(jié)構(gòu)的真空腔室，可直接與市場上大多數(shù)手套箱集成到一起。真空腔室的門可豎直滑動開關，嵌入手套箱內(nèi)，并占用很少的手套箱空間；其后門是鉸鏈扇式開關，能在不影響手套箱內(nèi)氣氛的情況下輕松維護腔室內(nèi)工藝組件。

更新時間:2025-07-05

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Auto 306英國HHV 科研工作者和電子顯微學家的多功能鍍膜設備

英國hhv auto 306 科研工作者和電子顯微學家的多功能鍍膜設備，是一種多功能的緊湊型鍍膜設備，設計用于滿足科研工作者和電子顯微學家的需求。auto306可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標準化工藝附件，提供一系列實驗技術以滿足現(xiàn)代化實驗室的需要。

更新時間:2025-07-05

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TF500/TF600英國HHV適合先進研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)

tf500/tf600 適合先進研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)，系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個型號的系統(tǒng)都可以安裝多個鍍膜源，也都支持離子束處理選項。有一系列預進樣室（load lock）和樣品操縱裝置可供選擇，以提高真空鍍膜效率。

更新時間:2025-07-05

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