光學(xué)平臺產(chǎn)品及廠家

上海儀廣科技無磁光學(xué)平臺 GN系列

上海儀廣科技無磁光學(xué)平臺 gn系列無磁光學(xué)平臺又稱非磁性光學(xué)平臺，常用于需要支撐高強度磁鐵或保持均勻磁場的應(yīng)用。臺面全部采用非磁性304不銹鋼或316不銹鋼制成。同時，我們也提供非磁性隔振支腿和普通隔振支腿兩種類型，無磁隔振支腿上的配件全都采用304不銹鋼材料，雖然不銹鋼合金不能100％非磁性，但能顯著的降低鐵磁性能。

更新時間:2025-08-22

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上海儀廣科技桌面型氣浮隔振平臺

上海儀廣科技桌面型氣浮隔振平臺研發(fā)生產(chǎn)的精密桌面型氣浮隔振平臺，能夠滿足精密負載對振動隔離需求，且面向大多數(shù)設(shè)備儀器提供通用化隔振解決方案，改善振動環(huán)境，以發(fā)揮設(shè)備儀器的好效能。

更新時間:2025-08-22

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上海儀廣科技 QT系列自平衡氣浮隔振光學(xué)平臺

上海儀廣科技 qt系列自平衡氣浮隔振光學(xué)平臺? 臺面蜂窩內(nèi)芯結(jié)構(gòu)，臺板強度高，穩(wěn)定可靠。 ? 自平衡氣浮隔振，自動充氣，自動平衡，響應(yīng)時間短，平衡速度快。 ? 高效的振動隔離，采用半膜片式空氣彈簧，支撐腿內(nèi)部還有二級氣室，進一步提升隔振性能。

更新時間:2025-08-22

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上海儀廣科技 GM系列花崗石量具

上海儀廣科技 gm系列花崗石量具● 比重：2970-3070kg/m?● 抗壓強度：245-254n/mm?● 彈性磨量：1.27-1.47n/mm?● 線膨脹系數(shù)：4.61×10-6/℃● 吸水率：＜0.13%● 肖氏硬度：hs70以上

更新時間:2025-08-22

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上海儀廣科技鐵磁不銹鋼面包板 FB系列，430系列不銹鋼

上海儀廣科技鐵磁不銹鋼面包板 fb系列，430系列不銹鋼fb系列面包板選用430系列不銹鋼，可方便用于鏡架、支架、位移臺、導(dǎo)軌、磁力底座等機械件和光學(xué)組件的安裝使用。

更新時間:2025-08-22

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EVG7200奧地利SmartNIL紫外納米壓印

奧地利smartnil紫外納米壓�。篹vg7200，leds 制作，led pss納米壓印工藝，led納米透鏡陣列；微流體學(xué)；芯片實驗室；抗反射層；納米壓印光柵；蓮花效應(yīng)；光子帶隙；光學(xué)及通訊：光晶體，激光器件；生物技術(shù)解決方案：醫(yī)藥分析，血液分析，細胞生長。

更新時間:2025-08-22

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evg610是一款非常靈活的適用于研發(fā)和小批量試產(chǎn)的對準系統(tǒng)，可處理大200mm之內(nèi)的各種規(guī)格的晶片。evg610支持各種標準的光刻工藝，例如：真空、軟、硬接觸和接近曝光；也支持其他特殊的應(yīng)用，如鍵合對準、納米壓印光刻、微接觸印刷等。系統(tǒng)中的工具更換非常簡便快捷，每次更換都可在一分鐘之內(nèi)完成，而不需要門的工程人員和培訓(xùn)，非常適合大學(xué)、研究所的科研實驗和小批量生產(chǎn)。

更新時間:2025-08-22

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EVG510奧地利EVG鍵合機

奧地利evg鍵合機：evg510，是一款半自動晶圓鍵合系統(tǒng)，可以處理大200mm的晶圓，非常適合于研發(fā)和小批量生產(chǎn)。evg510提供了除上料和下料外的全自動工藝處理過程，并配備了業(yè)界公認的優(yōu)異的加熱和壓力均勻性系統(tǒng)。evg510模塊化的鍵合腔室設(shè)計可用于150mm或200mm晶圓鍵合，并且其工藝菜單與evg其他更高系列的鍵合機相匹配，可以方便的實現(xiàn)從實驗線到量產(chǎn)線的工藝復(fù)制。

更新時間:2025-08-22

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EVG510IS奧地利EVG鍵合機

evg520is是一款設(shè)計用于小批量生產(chǎn)的半自動晶圓鍵合系統(tǒng)，大硅片允許尺寸為200mm。集evg新技術(shù)及客戶反饋基礎(chǔ)上設(shè)計的evg520is，配備了evg公司的利吸盤設(shè)計---這種吸盤可以提供對稱的快速加熱和冷卻功能。evg520is的很多優(yōu)勢特性，如獨立的上下盤加熱和高壓鍵合工藝、高度的材料和工藝靈活性等，都幫助客戶很好的實施鍵合研究和生產(chǎn)。

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EVG620奧地利EVG單雙面光刻機(帶有壓印功能）

evg620 單面/雙面光刻機(帶有壓印功能），evg620 是一款非常靈活和可靠的光刻設(shè)備，可配置為半自動也可以為全自動形式。evg620 既可以用作雙面光刻機也可以用作 150mm 硅片的精確對準設(shè)備；既可以用作研發(fā)設(shè)備，也可以用作量產(chǎn)設(shè)備。精密的契型補償

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NE-550Z日本Ulvac干法等離子刻蝕裝置

ne-550z是高真空load-lock式干法等離子刻蝕裝置，適用于半導(dǎo)體材料、金屬材料等的精細刻蝕

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CS-200z日本Ulvac返回式真空濺射裝置

返回式真空濺射裝置 cs-200z，高真空交直流濺射設(shè)備.適用于金屬、合金、陶瓷材料的高品質(zhì)濺射成膜.

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Pioneer 180-2-PLD美國Neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)

美國neocera 脈沖激光沉積系統(tǒng)pioneer 180-2-pld,一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法

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Pioneer 180-2-PLD氮化鎵支撐片，晶片，硅片

2英寸氮化鎵自支撐晶片, 10×10.5mm²氮化鎵自支撐晶片, 非性/半性氮化鎵自支撐晶片, 4英寸氮化鎵厚膜晶片, 2英寸氮化鋁厚膜晶片, 2英寸氮化鎵厚膜晶片

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AS-ONE法國Annealsys 高溫退火爐

法國annealsys 高溫退火爐as-one, 多用途快速熱處理設(shè)備，適用于硅，化合物半導(dǎo)體，太陽能電池& mems.

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OCTOPLUS 400德國MBE-Komponenten 分子束外延系統(tǒng)

日本rion液體光學(xué)顆粒度儀ks-19f,寬廣的測試范圍，可測試 0.03~0.13um 之間的顆粒只需要小小的樣品取樣量就可以得到高效率高精準的顆粒數(shù)據(jù)。octoplus 400 是一款通用型mbe系統(tǒng)，非常適合于iii/v族， ii/vi族，及其他復(fù)合半導(dǎo)體材料應(yīng)用。兼容2-4英寸標準晶片。豎直分割式腔體設(shè)計，可以裝配各種源爐，實現(xiàn)不同材料分子束外延生長。

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RTP-150德國UnitemP真空快速退火爐

德國unitemp真空快速退火爐rtp-150, 單晶圓，150mm，快升溫速率可達150k/s

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綠光納鉆孔設(shè)備Standard Drilling Machine綠光納鉆孔設(shè)備

玻璃去油墨設(shè)備,采用訂制紫外納激光器對玻璃表面進行去油墨以及油墨微加工，將產(chǎn)品損傷降至低。

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OAI 800 MBA美國OAI光刻機

oai 800型光學(xué)正面和背面光刻機系統(tǒng), 是半自動,four-camera、光學(xué)正面和背面光刻機。它提供其精確的(1碌m - 2 m碌)對準精度,旨在大大超過任何紅外背后對準器性能的一個非常有競爭力的價格。通用模型800光刻機是理想的用于低產(chǎn)量、研發(fā)實驗室和大學(xué)。

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NanoFrazor 3D瑞士納米結(jié)構(gòu)高速直寫機機

瑞士nanofrazor 3d納米結(jié)構(gòu)高速直寫機，源于發(fā)明stm和afm的ibm蘇黎世研發(fā)中心，是其在納米加工技術(shù)的新研究成果。nanofrazor納米3d結(jié)構(gòu)直寫機第一次將納米尺度下的3d結(jié)構(gòu)直寫工藝快速化、穩(wěn)定化。

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M160中國nanoArch科研3D打印機

nanoarch科研3d打印機m160 ，本套系統(tǒng)創(chuàng)新地使用了自動化的多材料送料系統(tǒng)，兼顧高精度和多材料打印，可支持同時打印4種樹脂基復(fù)合材料進行層間或?qū)觾?nèi)多材料3d打印，適用于基礎(chǔ)理論驗證及原理創(chuàng)新研究，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。其主要應(yīng)用在點陣結(jié)構(gòu)材料、功能梯度材料、超材料、復(fù)合材料、復(fù)雜微流控，多材料4d打印等方面。

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P130/S130中國nanoArch科研3D打印機

nanoarch微納3d打印機 p130/s130 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

更新時間:2025-08-22

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P140/S140中國nanoArch科研3D打印機

nanoarch 3d打印機p140/s140 ，科研3d打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

更新時間:2025-08-22

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KZ-30UK理音RION 采樣器統(tǒng)

理音rion kz-30uk采樣器，易于操作的室內(nèi)化學(xué)采樣器，當(dāng)腔體壓力過高的時候，可以排凈空氣，防止發(fā)生故障，設(shè)計簡單的化學(xué)防爆采樣器，kz-30uk的設(shè)計是可以為離線測試的液體粒子計數(shù)器提供加壓。

更新時間:2025-08-22

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NTE-4000,NTE-3500,NTE-3000,NTE-1000美Nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)

美nano-master熱蒸鍍系統(tǒng)：nte-4000 獨立式電子束蒸鍍，nte-3500 緊湊型獨立式熱蒸鍍，nte-3000 雙蒸源臺式熱蒸鍍系統(tǒng)，nte-1000 簡便型熱蒸鍍。熱蒸鍍系統(tǒng)可以跟nano-master那諾-馬斯特的其它任意真空系統(tǒng)組成雙系統(tǒng)。

更新時間:2025-08-22

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NSC-4000,NSC-3500,NSC-3000,NSC-1000美Nano-master磁控濺射系統(tǒng)

美nano-master磁控濺射系統(tǒng)：nsc-4000獨立式磁控濺射系統(tǒng)，可支持共濺射等能力的擴展nsc-3500緊湊型獨立式熱蒸鍍，可以支持金屬材料的dc濺射，介質(zhì)材料的rf濺射，以及脈沖dc濺射等應(yīng)用。nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射nsc-1000單金靶靶材的臺式濺射系統(tǒng)，不但可用于電鏡制備，也可以用于常規(guī)的金屬濺射

更新時間:2025-08-22

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NPE-4000NANO-MASTER的等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PECVD系統(tǒng)

nano-master的等離子增強化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)pecvd系統(tǒng)npe-4000,可以制造高質(zhì)量的氧化硅、氮化硅、碳納米管、金剛石和碳化硅等薄膜。基板可以容納8英寸晶圓，可通過射頻、脈沖直流或者直流電源提供偏壓，可通過熱電阻或者紅外燈加熱到800°c。ns

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NEE-4000美NANO-MASTER電子束蒸鍍系統(tǒng)

nano-master電子束蒸鍍系統(tǒng) nee-4000，可通過樣片掩膜實現(xiàn)組合蒸鍍，并可通過電腦控制單個電子束蒸鍍的蒸鍍速率。系統(tǒng)可支持共蒸鍍功能。能夠升支持自動上下片，以及手動或自動翻轉(zhuǎn)樣片實現(xiàn)雙面鍍膜。該系列的e-beam電子束蒸鍍系統(tǒng)，也可以跟磁控濺射

更新時間:2025-08-22

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NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美NANO-MASTER IBM離子銑/IBE離子束刻蝕系統(tǒng)

ibm離子銑/ibe離子束刻蝕系統(tǒng)：nie-4000 獨立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nie-3500 緊湊型獨立式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nir-4000 獨立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射

更新時間:2025-08-22

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NIE-4000,NIE-3500,NIR-4000,NIE-3000美Nano-master等離子清洗/灰化系統(tǒng)

nano-master等離子清洗和灰化系統(tǒng)設(shè)計用于廣泛的需求，從批處理和單晶圓的光刻膠剝離到晶圓表面改性都可以涵蓋。這些系統(tǒng)通過計算機控制，可以配套不同的等離子源，加熱和不加熱的基片夾具，以及獨一無二的從等離子刻蝕切換到rie刻蝕模式的能力。$r

更新時間:2025-08-22

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NLD-4000,NLD-3500,NLD-3000美Nano-master ALD/PEALD原子層沉積系統(tǒng)

美nano-master ald/peald原子層沉積：nld-4000 獨立式ald系統(tǒng)nld-3500 緊湊型獨立式ald系統(tǒng)nld-3000 臺式ald系統(tǒng)

更新時間:2025-08-22

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NRR-4000, NRE-4000, NRE-3000, NDR-4000美Nano-master RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)

美nano-master rie反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)nrr-4000 獨立式雙rie或icp刻蝕系統(tǒng)nre-4000 獨立式rie或icp系統(tǒng)nre-3000 臺式rie系統(tǒng)ndr-4000 深硅刻蝕系統(tǒng)

更新時間:2025-08-22

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NNDT-4000美Nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng)

美nano-master 熱真空太空模擬系統(tǒng) ndt-4000,是一款器件測試系統(tǒng)，俗稱“熱真空系統(tǒng)”,可以用于真空和可控的均勻加熱以及冷卻循環(huán)條件下的器件或樣片測試。

更新時間:2025-08-22

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KC-22A日本RION粒子計數(shù)器

日本rion粒子計數(shù)器：kc-22a ( 光散射法）,大粒子數(shù)濃度：10000顆/l （誤差值低于5%）,可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。

更新時間:2025-08-22

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KC-22B日本RION粒子計數(shù)器

日本rion粒子計數(shù)器：kc-22b ( 光散射法）,液體粒子計數(shù)器，可檢測從純水到氫氟酸各種各樣的液體。

更新時間:2025-08-22

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KC-31日本RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器kc-31 ( 光散射法）,測試粒徑（6個通道）,大粒子數(shù)濃度：28000000 顆/l

更新時間:2025-08-22

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KC-32日本RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：kc-32 ( 光散射法）測試粒徑（6個通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm, ≥10μm

更新時間:2025-08-22

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KC-20A日本RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：kc-20a ( 光散射法）,測試粒徑（5個通道）：≥10μm， ≥20μm ， ≥30μm ， ≥50μm， ≥100μm

更新時間:2025-08-22

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KA-05日本RION粒子計數(shù)器

日本rion粒子計數(shù)器：ka-05( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器,測試粒徑（2個通道）：≥0.5μm ， ≥5.0μm

更新時間:2025-08-22

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KE-18FX日本RIO液體粒子計數(shù)器

日本rio液體粒子計數(shù)器ke-18fx ( 光散射法）,測試粒徑（4個通道）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm，

更新時間:2025-08-22

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KS-42D日本RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion液體光學(xué)顆粒度儀 ks-42d ( 光散射法），大粒子數(shù)濃度：10 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（8個通道，出廠默認）：≥2μm， ≥3μm ， ≥5μm ， ≥7μm, ≥10μm， ≥25μm ， ≥50μm ， ≥100μm(可選 ≥150μm）

更新時間:2025-08-22

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KL-30AX日本RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion粒子計數(shù)器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個通道，工廠標配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm

更新時間:2025-08-22

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

KL-30A日本理音RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：kl-30a ( 光散射法）, 測純水，可打印。大粒子數(shù)濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個通道，出廠設(shè)置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm

更新時間:2025-08-22

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KL-30B日本理音RION 氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：kl-30b ( 光散射法）, 測純水，可打印。大粒子數(shù)濃度：200 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（4個通道，出廠設(shè)置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm

更新時間:2025-08-22

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

KC-51日本理音RION 手持式粒子計數(shù)器

日本rion 手持式粒子計數(shù)器：kc-51( 光散射方式）,大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/m³ （誤差值低于10%）

更新時間:2025-08-22

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KC-52日本理音RION 手持式粒子計數(shù)器

日本rion 手持式粒子計數(shù)器：kc-52( 光散射方式）,粒徑范圍：5個通道： 0.3μm ， 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/m³ （誤差值低于10%）

更新時間:2025-08-22

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KA-02日本理音RION 氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-02( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（2個通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm，大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）

更新時間:2025-08-22

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KA-03日本理音RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-03( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（5個通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm ，≥1μm ， ≥2μm ，≥5μm ，大粒子數(shù)濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）

更新時間:2025-08-22

該公司產(chǎn)品分類：深圳市藍星宇電子科技有限公司

KA-82日本理音RION氣體粒子計數(shù)器

日本rion氣體粒子計數(shù)器：ka-82( 光散射方式）,多點監(jiān)視用粒子計數(shù)器，測試粒徑（5個通道）：≥0.1μm ， ≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm ，大粒子數(shù)濃度：10 000顆/l （誤差值低于5%）

更新時間:2025-08-22

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NRT-3500, NRT-4000美NANO-MASTER RTP快速退火爐

美nano-master rtp快速退火爐nrt-3500 緊湊型獨立式全自動rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨立式全自動rtp系統(tǒng)nrt-4000 獨立式大批量rtp系統(tǒng)nir-4000 獨立式 ibe / rie 雙刻蝕系統(tǒng)nie-3000 臺式 ibe 刻蝕系統(tǒng)nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射

更新時間:2025-08-22

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